| Spécification | 99,999% |
| Oxygène + Argon | ≤1 ppm |
| Azote | ≤4 ppm |
| Humidité (H2O) | ≤3 ppm |
| HF | ≤0,1 ppm |
| CO | ≤0,1 ppm |
| CO2 | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤1 ppm |
| Halocarbynes | ≤1 ppm |
| Impuretés totales | ≤10 ppm |
Le tétrafluorure de carbone est un hydrocarbure halogéné de formule chimique CF₄. Il peut être considéré comme un hydrocarbure halogéné, un méthane halogéné, un perfluorocarbure ou un composé inorganique. Le tétrafluorure de carbone est un gaz incolore et inodore, insoluble dans l'eau, mais soluble dans le benzène et le chloroforme. Stable à température et pression ambiantes, il convient d'éviter tout contact avec des oxydants puissants, des substances inflammables ou combustibles. Bien qu'incombustible, la pression interne du récipient augmente lorsqu'il est exposé à une forte chaleur, ce qui présente un risque de fissuration et d'explosion. Chimiquement stable et ininflammable, il ne peut être manipulé à température ambiante qu'avec un réactif composé d'ammoniaque liquide et de sodium. Le tétrafluorure de carbone contribue à l'effet de serre. Très stable, il peut persister longtemps dans l'atmosphère et constitue un puissant gaz à effet de serre. Il est utilisé dans le procédé de gravure plasma de divers circuits intégrés. Il est également utilisé comme gaz laser et entre dans la composition de réfrigérants basse température, de solvants, de lubrifiants, de matériaux isolants et de fluides de refroidissement pour détecteurs infrarouges. C'est le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie microélectronique. Il s'agit d'un mélange de tétrafluorométhane de haute pureté et d'oxygène de haute pureté. Il est largement utilisé pour la gravure du silicium, du dioxyde de silicium, du nitrure de silicium et du verre phosphosilicaté. La gravure de matériaux en couches minces tels que le tungstène est également largement utilisée pour le nettoyage de surface des dispositifs électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, la réfrigération basse température, la détection de fuites et comme détergent dans la production de circuits imprimés. Il est utilisé comme réfrigérant basse température et dans la technologie de gravure sèche plasma pour les circuits intégrés. Précautions de stockage : Stocker dans un entrepôt de gaz incombustibles frais et ventilé. Tenir à l'écart du feu et des sources de chaleur. La température de stockage ne doit pas dépasser 30 °C. Il convient de le stocker séparément des combustibles et comburants facilement inflammables, et d'éviter tout stockage mixte. La zone de stockage doit être équipée d'un dispositif de traitement d'urgence des fuites.
① Réfrigérant :
Le tétrafluorométhane est parfois utilisé comme réfrigérant à basse température.
② Gravure :
Il est utilisé en microfabrication électronique, seul ou en combinaison avec de l'oxygène, comme agent de gravure plasma pour le silicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium.
| Produit | tétrafluorure de carboneCF4 | ||
| Taille de l'emballage | Cylindre de 40 litres | Cylindre de 50 litres | |
| Poids net de remplissage/cylindre | 30 kg | 38 kg | |
| Quantité chargée dans un conteneur de 20 pieds | 250 cylindres | 250 cylindres | |
| Poids net total | 7,5 tonnes | 9,5 tonnes | |
| Poids à vide du cylindre | 50 kg | 55 kg | |
| Soupape | CGA 580 | ||
① Haute pureté, installations de pointe ;
② Fabricant certifié ISO ;
③ Livraison rapide ;
④ Système d'analyse en ligne pour le contrôle qualité à chaque étape ;
⑤ Exigences élevées et processus méticuleux pour la manipulation du cylindre avant le remplissage ;