Tétrafluorure de carbone (CF4)

Brève description :

Le tétrafluorure de carbone, également appelé tétrafluorométhane, est un gaz incolore à température et pression normales, insoluble dans l'eau. Le gaz CF4 est actuellement le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie microélectronique. Il est également utilisé comme gaz laser, réfrigérant cryogénique, solvant, lubrifiant, matériau isolant et liquide de refroidissement pour les tubes détecteurs infrarouges.


Détails du produit

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Paramètres techniques

Spécification 99,999%
Oxygène+Argon ≤ 1 ppm
Azote ≤ 4 ppm
Humidité (H2O) ≤ 3 ppm
HF ≤ 0,1 ppm
CO ≤ 0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Impuretés totales ≤10 ppm

Le tétrafluorure de carbone est un hydrocarbure halogéné de formule chimique CF4. Il peut être considéré comme un hydrocarbure halogéné, un méthane halogéné, un perfluorocarbure ou un composé inorganique. Le tétrafluorure de carbone est un gaz incolore et inodore, insoluble dans l'eau et soluble dans le benzène et le chloroforme. Stable à température et pression normales, éviter les oxydants puissants et les matières inflammables ou combustibles. Gaz incombustible, la pression interne du récipient augmente en cas de forte chaleur, ce qui présente un risque de fissuration et d'explosion. Chimiquement stable et ininflammable, seul un réactif métal ammoniac-sodium liquide est efficace à température ambiante. Le tétrafluorure de carbone est un gaz à effet de serre. Très stable, il peut rester longtemps dans l'atmosphère et est un gaz à effet de serre très puissant. Il est utilisé dans la gravure plasma de divers circuits intégrés. Il est également utilisé comme gaz laser et est utilisé dans les réfrigérants basse température, les solvants, les lubrifiants, les matériaux isolants et les liquides de refroidissement pour détecteurs infrarouges. C'est le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie microélectronique. C'est un mélange de tétrafluorométhane gazeux de haute pureté, de tétrafluorométhane gazeux de haute pureté et d'oxygène de haute pureté. Il peut être largement utilisé dans le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et le verre phosphosilicate. La gravure de matériaux en couches minces tels que le tungstène et le tungstène est également largement utilisée dans le nettoyage de surface des appareils électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, la réfrigération basse température, l'inspection des fuites et les détergents dans la production de circuits imprimés. Utilisé comme réfrigérant basse température et technologie de gravure plasma sèche pour les circuits intégrés. Précautions de stockage : Conserver dans un entrepôt frais et ventilé, non combustible. Tenir à l'écart du feu et des sources de chaleur. La température de stockage ne doit pas dépasser 30 °C. Le stockage doit être séparé des combustibles et oxydants facilement inflammables, et tout stockage mixte doit être évité. La zone de stockage doit être équipée d'un équipement de traitement d'urgence des fuites.

Application:

1 Réfrigérant :

Le tétrafluorométhane est parfois utilisé comme réfrigérant à basse température.

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2 Gravure :

Il est utilisé dans la microfabrication électronique seul ou en combinaison avec l'oxygène comme agent de gravure plasma pour le silicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium.

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Paquet normal :

Produit Tétrafluorure de carboneCF4
Taille du paquet Bouteille de 40 litres Bouteille de 50 litres  
Poids net de remplissage/cylindre 30 kg 38 kg  
Quantité chargée dans un conteneur de 20 pieds 250 cylindres 250 cylindres
Poids net total 7,5 tonnes 9,5 tonnes
Poids à vide du cylindre 50 kg 55 kg
Soupape CGA 580

Avantage:

①Haute pureté, installation de pointe ;

②Fabricant certifié ISO ;

③Livraison rapide;

④Système d’analyse en ligne pour le contrôle qualité à chaque étape ;

⑤Exigence élevée et processus méticuleux pour la manipulation du cylindre avant le remplissage ;


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