Tetrafluorure de carbone industriel de haute définition Gas CF4

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Paramètres techniques

Le tétrafluorure de carbone est un hydrocarbure halogéné avec la formule chimique CF4. Il peut être considéré comme un hydrocarbure halogéné, du méthane halogéné, du perfluorocarbone ou comme un composé inorganique. Le tétrafluorure de carbone est un gaz incolore et inodore, insoluble dans l'eau, soluble dans le benzène et le chloroforme. Stable sous une température et une pression normales, évitez de forts oxydants, des matériaux inflammables ou combustibles. Gaz non incombustible, la pression interne du récipient augmentera lorsqu'elle sera exposée à une chaleur élevée, et il y a un danger de fissuration et d'explosion. Il est chimiquement stable et non inflammable. Seul le réactif liquide en métal d'ammoniac-sodium peut fonctionner à température ambiante. Le tétrafluorure de carbone est un gaz qui provoque l'effet de serre. Il est très stable, peut rester dans l'atmosphère pendant longtemps et est un gaz à effet de serre très puissant. Le tétrafluorure de carbone est utilisé dans le processus de gravure du plasma de divers circuits intégrés. Il est également utilisé comme gaz laser et est utilisé dans les réfrigérants à basse température, les solvants, les lubrifiants, les matériaux isolants et les refroidisseurs pour les détecteurs infrarouges. Il s'agit du gaz de gravure du plasma le plus utilisé dans l'industrie de la microélectronique. Il s'agit d'un mélange de gaz tétrafluorométhane de haute pureté et de gaz de gaz de haute pureté tétrafluorométhane et d'oxygène de haute pureté. Il peut être largement utilisé dans le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et le verre phosphosilicate. La gravure des matériaux en film mince telles que le tungstène et le tungstène est également largement utilisée dans le nettoyage de surface des dispositifs électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, la réfrigération à basse température, l'inspection des fuites et le détergent dans la production de circuits imprimés. Utilisé comme une technologie de gravure à sec à basse température et à plasma pour les circuits intégrés. Précautions pour le stockage: stocker dans un entrepôt de gaz cool et ventilé non combustible. Éloignez-vous des sources de feu et de chaleur. La température de stockage ne doit pas dépasser 30 ° C. Il doit être stocké séparément des combustibles et des oxydants facilement (combustibles) et éviter le stockage mixte. La zone de stockage doit être équipée d'équipements de traitement d'urgence des fuites.

Application:

① Réfrigérant:

Le tétrafluorométhane est parfois utilisé comme réfrigérant à basse température.

② Gravure:

Il est utilisé dans la microfabrication électronique seul ou en combinaison avec de l'oxygène comme graveur de plasma pour le silicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium.

Package normal:

Avantage:

Pureté élevée, dernière installation;

Fabricant de certificat;

③ livraison rapide;

Système d'analyse en ligne sur le contrôle de la qualité à chaque étape;

⑤ exigence considérable et processus méticuleux pour la manipulation du cylindre avant le remplissage;La société confirme la philosophie de «BE n ° 1 en qualité, enracinée sur le crédit et la fiabilité de la croissance», continuera de servir les anciens et les nouveaux clients à domicile et à l'étranger entièrement pour la haute définition en Allemagne de la Chine en Allemagne, en Turquie, au Canada, aux États-Unis, en Inde, en Inde, au Nigeria, au Brazil et à d'autres régions avec le monde. Nous avons eu du mal à devenir un des plus grands fournisseurs du monde entier.
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