Gaz spéciaux
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Tétrafluorure de Soufre (SF4)
N° EINECS : 232-013-4
N° CAS : 7783-60-0 -
Oxyde nitreux (N2O)
L'oxyde nitreux, également connu sous le nom de gaz hilarant, est un produit chimique dangereux de formule chimique N2O. C'est un gaz incolore et odorant. Le N2O est un oxydant qui peut entretenir la combustion dans certaines conditions, mais qui est stable à température ambiante et a un léger effet anesthésique. , et peut faire rire les gens. -
Tétrafluorure de carbone (CF4)
Le tétrafluorure de carbone, également connu sous le nom de tétrafluorométhane, est un gaz incolore à température et pression normales, insoluble dans l'eau. Le gaz CF4 est actuellement le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l’industrie microélectronique. Il est également utilisé comme gaz laser, réfrigérant cryogénique, solvant, lubrifiant, matériau isolant et liquide de refroidissement pour les tubes de détection infrarouge. -
Fluorure de sulfuryle (F2O2S)
Le fluorure de sulfuryle SO2F2, gaz toxique, est principalement utilisé comme insecticide. Parce que le fluorure de sulfuryle présente les caractéristiques d'une forte diffusion et perméabilité, d'un insecticide à large spectre, d'un faible dosage, d'une faible quantité résiduelle, d'une vitesse insecticide rapide, d'un temps de dispersion des gaz court, d'une utilisation pratique à basse température, d'aucun effet sur le taux de germination et d'une faible toxicité, plus Il est de plus en plus utilisé dans les entrepôts, les cargos, les bâtiments, les barrages-réservoirs, la prévention des termites, etc. -
Silane (SiH4)
Le Silane SiH4 est un gaz comprimé incolore, toxique et très actif à température et pression normales. Le silane est largement utilisé dans la croissance épitaxiale du silicium, des matières premières pour le polysilicium, l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, etc., les cellules solaires, les fibres optiques, la fabrication de verre coloré et le dépôt chimique en phase vapeur. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, pureté du gaz : 99,999 %, souvent utilisé comme propulseur d'aérosol alimentaire et gaz moyen. Il est souvent utilisé dans le processus PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition) des semi-conducteurs, le C4F8 est utilisé en remplacement du CF4 ou du C2F6, utilisé comme gaz de nettoyage et gaz de gravure pour les processus de semi-conducteurs. -
Oxyde nitrique (NO)
L'oxyde nitrique gazeux est un composé d'azote de formule chimique NO. C'est un gaz toxique, incolore, inodore et insoluble dans l'eau. L'oxyde nitrique est chimiquement très réactif et réagit avec l'oxygène pour former le dioxyde d'azote (NO₂), un gaz corrosif. -
Chlorure d'hydrogène (HCl)
Le gaz chlorure d’hydrogène HCL est un gaz incolore avec une odeur âcre. Sa solution aqueuse est appelée acide chlorhydrique, également appelé acide chlorhydrique. Le chlorure d'hydrogène est principalement utilisé pour fabriquer des colorants, des épices, des médicaments, divers chlorures et des inhibiteurs de corrosion. -
Hexafluoropropylène (C3F6)
L'hexafluoropropylène, formule chimique : C3F6, est un gaz incolore à température et pression normales. Il est principalement utilisé pour préparer divers produits chimiques fins contenant du fluor, des intermédiaires pharmaceutiques, des agents extincteurs, etc., et peut également être utilisé pour préparer des matériaux polymères contenant du fluor. -
Ammoniac (NH3)
L'ammoniac liquide/ammoniac anhydre est une matière première chimique importante avec un large éventail d'applications. L'ammoniac liquide peut être utilisé comme réfrigérant. Il est principalement utilisé pour produire de l'acide nitrique, de l'urée et d'autres engrais chimiques, et peut également être utilisé comme matière première pour des médicaments et des pesticides. Dans l’industrie de défense, il est utilisé pour fabriquer des propulseurs pour fusées et missiles.
