Gaz spéciaux
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Tétrafluorure de soufre (SF4)
Numéro EINECS : 232-013-4
N° CAS : 7783-60-0 -
Oxyde nitreux (N2O)
Le protoxyde d'azote, aussi appelé gaz hilarant, est un produit chimique dangereux de formule N₂O. C'est un gaz incolore à l'odeur douceâtre. Le N₂O est un comburant qui peut entretenir la combustion dans certaines conditions, mais il est stable à température ambiante et possède un léger effet anesthésiant. Il peut provoquer le rire. -
Tétrafluorure de carbone (CF4)
Le tétrafluorure de carbone, également appelé tétrafluorométhane, est un gaz incolore à température et pression ambiantes, insoluble dans l'eau. Le gaz CF4 est actuellement le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie microélectronique. Il est également employé comme gaz laser, réfrigérant cryogénique, solvant, lubrifiant, isolant et fluide de refroidissement pour les tubes détecteurs infrarouges. -
Fluorure de sulfuryle (F2O2S)
Le fluorure de sulfuryle (SO₂F₂), un gaz toxique, est principalement utilisé comme insecticide. Grâce à ses propriétés de forte diffusion et de perméabilité, son large spectre d'action, son faible dosage, sa faible persistance, sa rapidité d'action, son temps de dispersion court, sa facilité d'utilisation à basse température, son absence d'effet sur la germination et sa faible toxicité, il est de plus en plus utilisé dans les entrepôts, les navires de charge, les bâtiments, les barrages, pour la prévention des termites, etc. -
Silane (SiH4)
Le silane (SiH4) est un gaz comprimé incolore, toxique et très réactif à température et pression ambiantes. Il est largement utilisé pour la croissance épitaxiale du silicium, comme matière première pour le polysilicium, l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, etc., ainsi que dans les cellules solaires, les fibres optiques, la fabrication de verre coloré et le dépôt chimique en phase vapeur. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
L'octafluorocyclobutane (C4F8), d'une pureté de 99,999 %, est fréquemment utilisé comme propulseur pour aérosols alimentaires et comme gaz vecteur. Il est également employé dans le procédé PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) pour la fabrication de semi-conducteurs. Le C4F8 remplace le CF4 ou le C2F6 et sert de gaz de nettoyage et de gaz de gravure pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. -
Oxyde nitrique (NO)
Le monoxyde d'azote (NO) est un composé de l'azote. C'est un gaz incolore, inodore et toxique, insoluble dans l'eau. Très réactif, il réagit avec l'oxygène pour former le dioxyde d'azote (NO₂), un gaz corrosif. -
Chlorure d'hydrogène (HCl)
Le chlorure d'hydrogène (HCl) est un gaz incolore à l'odeur piquante. Sa solution aqueuse est appelée acide chlorhydrique. Le chlorure d'hydrogène est principalement utilisé dans la fabrication de colorants, d'épices, de médicaments, de divers chlorures et d'inhibiteurs de corrosion. -
Hexafluoropropylène (C3F6)
L'hexafluoropropylène, de formule chimique C₃F₆, est un gaz incolore à température et pression ambiantes. Il est principalement utilisé pour la préparation de divers produits chimiques fins fluorés, d'intermédiaires pharmaceutiques, d'agents extincteurs, etc., et peut également servir à la préparation de matériaux polymères fluorés. -
Ammoniac (NH3)
L'ammoniac liquide (ou ammoniac anhydre) est une matière première chimique importante aux applications très diverses. Il peut être utilisé comme réfrigérant. Il sert principalement à la production d'acide nitrique, d'urée et d'autres engrais chimiques, et entre également dans la composition de médicaments et de pesticides. Dans l'industrie de la défense, il est utilisé pour la fabrication de propergols pour fusées et missiles.
