Principaux fournisseurs de tétrafluorure de carbone CF4 (gaz électronique) en Chine

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Paramètres techniques

Le tétrafluorure de carbone est un hydrocarbure halogéné de formule chimiqueCF4Le tétrafluorure de carbone peut être considéré comme un hydrocarbure halogéné, un méthane halogéné, un perfluorocarbure ou un composé inorganique. C'est un gaz incolore et inodore, insoluble dans l'eau, mais soluble dans le benzène et le chloroforme. Stable à température et pression ambiantes, il convient d'éviter tout contact avec des oxydants puissants, des substances inflammables ou combustibles. Bien qu'incombustible, la pression interne du récipient augmente lorsqu'il est exposé à une forte chaleur, ce qui présente un risque de fissuration et d'explosion. Chimiquement stable et ininflammable, il ne peut être manipulé à température ambiante qu'avec un réactif composé d'ammoniac liquide et de sodium. Le tétrafluorure de carbone contribue à l'effet de serre. Très stable, il peut persister longtemps dans l'atmosphère et constitue un puissant gaz à effet de serre. Il est utilisé dans la gravure plasma de divers circuits intégrés, comme gaz laser, et entre dans la composition de réfrigérants basse température, de solvants, de lubrifiants, de matériaux isolants et de fluides caloporteurs pour détecteurs infrarouges. Il s'agit du gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie microélectronique. C'est un mélange de tétrafluorométhane de haute pureté et d'oxygène de haute pureté. Il est largement utilisé pour la gravure du silicium, du dioxyde de silicium, du nitrure de silicium et du verre phosphosilicaté. La gravure de matériaux en couches minces tels que le tungstène est également largement utilisée pour le nettoyage de surface des dispositifs électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, la réfrigération à basse température, la détection de fuites et comme détergent dans la production de circuits imprimés. Il est utilisé comme réfrigérant à basse température et dans la technologie de gravure sèche plasma pour les circuits intégrés. Précautions de stockage : Stocker dans un entrepôt de gaz incombustibles, frais et ventilé. Tenir à l'écart du feu et des sources de chaleur. La température de stockage ne doit pas dépasser 30 °C. Stocker séparément des combustibles et oxydants facilement inflammables et éviter le stockage mixte. La zone de stockage doit être équipée d'un dispositif de déclenchement d'urgence en cas de fuite.

Application:

① Réfrigérant :

Le tétrafluorométhane est parfois utilisé comme réfrigérant à basse température.

② Gravure :

Il est utilisé en microfabrication électronique, seul ou en combinaison avec de l'oxygène, comme agent de gravure plasma pour le silicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium.

Emballage normal :

Avantage:

① Haute pureté, installations de pointe ;

② Fabricant certifié ISO ;

③ Livraison rapide ;

④ Système d'analyse en ligne pour le contrôle qualité à chaque étape ;

⑤ Exigences élevées et processus méticuleux pour la manipulation du cylindre avant le remplissage ;Grâce à un service de qualité, une large gamme de produits haut de gamme, des prix compétitifs et une livraison efficace, nous jouissons d'une excellente réputation auprès de nos clients. Entreprise dynamique et leader sur le marché chinois du tétrafluorure de carbone (CF4), gaz électronique, nous vous garantissons un service de qualité. Faites-nous confiance et vous y gagnerez. N'hésitez pas à nous contacter pour toute information complémentaire ; nous restons à votre entière disposition.
Fournisseurs de premier plan de tétrafluorure de carbone (CF4) en Chine. Nous développons constamment de nouvelles technologies pour optimiser la production et vous proposer des produits de haute qualité à des prix compétitifs ! Votre satisfaction est notre priorité ! N'hésitez pas à nous faire part de votre idée : nous développerons un design unique pour votre modèle afin d'éviter la surabondance de pièces similaires sur le marché. Nous mettrons tout en œuvre pour répondre à tous vos besoins. Contactez-nous dès aujourd'hui !