Gaz de tétrafluorure de carbone CF4 de haute pureté d'usine de vente chaude de 99,999% pour la gravure d'industrie de Simconductor

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Paramètres techniques

Le tétrafluorure de carbone est un hydrocarbure halogéné de formule chimique CF4.Il peut être considéré comme un hydrocarbure halogéné, un méthane halogéné, un perfluorocarbure ou un composé inorganique.Le tétrafluorure de carbone est un gaz incolore et inodore, insoluble dans l'eau, soluble dans le benzène et le chloroforme.Stable à température et pression normales, évitez les oxydants forts, les matériaux inflammables ou combustibles.Gaz non combustible, la pression interne du récipient augmente lorsqu'il est exposé à une chaleur élevée et il existe un risque de fissuration et d'explosion.Il est chimiquement stable et ininflammable.Seul le réactif liquide ammoniac-sodium métallique peut fonctionner à température ambiante.Le tétrafluorure de carbone est un gaz responsable de l'effet de serre.Il est très stable, peut rester longtemps dans l'atmosphère et est un gaz à effet de serre très puissant.Le tétrafluorure de carbone est utilisé dans le processus de gravure au plasma de divers circuits intégrés.Il est également utilisé comme gaz laser et est utilisé dans les réfrigérants à basse température, les solvants, les lubrifiants, les matériaux isolants et les liquides de refroidissement pour les détecteurs infrarouges.C'est le gaz de gravure plasma le plus utilisé dans l'industrie de la microélectronique.C'est un mélange de gaz de haute pureté de tétrafluorométhane et de gaz de haute pureté de tétrafluorométhane et d'oxygène de haute pureté.Il peut être largement utilisé dans le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et le verre phosphosilicate.La gravure de matériaux à couche mince tels que le tungstène et le tungstène est également largement utilisée dans le nettoyage de surface des appareils électroniques, la production de cellules solaires, la technologie laser, la réfrigération à basse température, l'inspection des fuites et les détergents dans la production de circuits imprimés.Utilisé comme réfrigérant à basse température et technologie de gravure sèche au plasma pour les circuits intégrés.Précautions pour le stockage : Stocker dans un entrepôt de gaz incombustible frais et ventilé.Tenir à l'écart du feu et des sources de chaleur.La température de stockage ne doit pas dépasser 30°C.Il doit être stocké séparément des combustibles et des oxydants facilement (combustibles) et éviter le stockage mixte.La zone de stockage doit être équipée d'un équipement de traitement d'urgence des fuites.

Application:

① Réfrigérant :

Le tétrafluorométhane est parfois utilisé comme réfrigérant à basse température.

② Gravure :

Il est utilisé dans la microfabrication électronique seul ou en combinaison avec de l'oxygène comme agent de gravure au plasma pour le silicium, le dioxyde de silicium et le nitrure de silicium.

Forfait normal :

Avantage:

①Haute pureté, dernière installation ;

②Fabricant de certificat ISO ;

③Livraison rapide ;

④Système d'analyse en ligne pour le contrôle de la qualité à chaque étape ;

⑤Exigence élevée et processus méticuleux pour la manipulation du cylindre avant le remplissage ;Maintenant, nous avons beaucoup de superbes membres du personnel, excellents en marketing Internet, QC, et travaillant avec des types de dilemmes gênants dans la méthode de fabrication pour Hot Sale Factory High Purity 99.999% Carbon Tetrafluoride CF4 Gas for Simconductor Industry Etching, Bienvenue à coopérer et développer avec nous!nous continuerons à fournir des produits de haute qualité et à des prix compétitifs.
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