Le gaz laser est principalement utilisé pour le recuit laser et le gaz de lithographie dans l'industrie électronique.Bénéficiant de l'innovation des écrans de téléphones portables et de l'expansion des domaines d'application, l'échelle du marché du polysilicium basse température sera encore élargie et le processus de recuit laser a considérablement amélioré les performances des TFT.Parmi les gaz néon, fluor et argon utilisés dans le laser à excimère ArF pour la fabrication de semi-conducteurs, le néon représente plus de 96 % du mélange de gaz laser.Avec le raffinement de la technologie des semi-conducteurs, l'utilisation des lasers excimères a augmenté et l'introduction de la technologie de double exposition a entraîné une forte augmentation de la demande de gaz néon consommé par les lasers excimères ArF.Bénéficiant de la promotion de la localisation des gaz spéciaux électroniques, les fabricants nationaux disposeront à l'avenir d'un meilleur espace de croissance du marché.
La machine de lithographie est l'équipement de base de la fabrication de semi-conducteurs.La lithographie définit la taille des transistors.Le développement coordonné de la chaîne de l'industrie de la lithographie est la clé de la percée de la machine de lithographie.Les matériaux semi-conducteurs correspondants tels que le photorésist, le gaz de photolithographie, le photomasque et les équipements de revêtement et de développement ont un contenu technologique élevé.Le gaz de lithographie est le gaz que la machine de lithographie génère au laser ultraviolet profond.Différents gaz de lithographie peuvent produire des sources lumineuses de différentes longueurs d'onde, et leur longueur d'onde affecte directement la résolution de la machine de lithographie, qui est l'un des cœurs de la machine de lithographie.En 2020, les ventes mondiales totales de machines de lithographie seront de 413 unités, dont les ventes ASML 258 unités représentaient 62 %, les ventes Canon 122 unités représentaient 30 % et les ventes Nikon 33 unités représentaient 8 %.
Heure de publication : 15 octobre 2021
